该晶圆研发厂坐落于华北区域，首要生孩子85英寸半导体技术晶圆，每日污废水 产生量约800吨。随着生孩子的过程 中使用的多氢氧化钠对其进行晶圆蚀刻，造成污废水 中氟化物溶度万代高达200-300mg/L，远超国家地区产生要求（10mg/L这）。 废污水成份及由来 废液最主要的位于3个过程： 晶圆蚀刻程序 ：含高氧化还原电位氟化物（HF）、硝酸银及几瓶天价属 化工物理增加光泽（CMP）化工废水 ：含nm级硅颗粒物、无机络合剂 机器拆洗废气 ：含异丙醇、氯离子等有机的物 办理加工程序 所采用"化学物质析出+混凝土析出+角度吸附"三级视频加工处理机系统： 一层操作 ：污泥脱水氯化钙和氢腐蚀钙，型成氟化钙沉积，氟化物清理率达85% 两级治理 ：含有PAC（整合氯化铝）和PAM（pe塑料酰胺），我们要除胶体溶液态造成的有害物质 3级外理 ：经过多导电介质活性炭吸附器和活力性炭活性炭吸附，留水氟化物渗透压保持稳定在8mg/L下面 关键所在装置涉及：pH自行自动调节系统性、斜管沉淀出的池、板框板框压滤机（污泥处理脱干）。 结果英文治疗效果 的项目使用几年监测站数据资料体现 ： 氟化物评均氨水浓度：7.2mg/L（压低国度规则） COD清掉率：92% 污泥处理含水分率：≤65% 年进行氟化钙副新产品约150吨，推动的减量化进行