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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8寸大晶圆的生产线设备配置的超蒸馏水体统,每天晚上产生了含硅电镀废水150吨。电镀废水底虽无巨资属,但硅水分含量高易水垢,且电阻值率需提高18MΩ·cm就要回收。原本正确处理工学院艺无非无法新发布的《网络产业水破坏物减排规范标准》(GB39731-2020)有点减排限制值。 废水处理工艺组成成分特质 主要是污染破坏物 :溶液硅(200-300mg/L)、科粒硅(粒度0.1-1μm) 特殊性要 :TOC<10μg/L,硼含铁<5μg/L 地表水性 :低纯水电导率(<50μS/cm)但硅化学物质型态繁多 补救工序操作流程 创新技术进行"梯级膜分割+电去阴阳离子"組合加工制作工艺 : 微滤预工作 :1μm陶瓷图片膜过滤大粒子硅,通量长期保持80LMH 阴离子更换硅橡胶 :D201大孔环氧树脂考虑性降解硅酸原子核 特殊RO系统性 :最段利用率60%,第十二段主要采用高脱硼膜电气元件 EDI电去铁离子 :功率导热系数2A/m²,延续清掉残留物正离子 红外光谱灭菌 :254nm红外光谱线的用药量40mJ/cm² 技木新亮点 开拓上用阻硅剂(有机物胺类挽回物),推迟膜污染破坏期限3倍 EDI功能模块自主创新流道设计制作,硅的还原率加强至99.8% 网上硅研究仪(估测范畴0.1-500μg/L)实行脱贫攻坚操纵 自动运行取得的成绩 经其承包方验测: 总硅从280mg/L低于0.05mg/L 硼纯度从8μg/L降为0.3μg/L 体统收集率从原40%提高自己至68% 膜换时期不断增加至5年,年程序运行成本费用调低35%

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